Fenil silan , silikon yüzey aktif maddelerin hazırlanması için bir hammaddedir ve uygulama örnekleri aşağıdaki gibidir:

1. Bir fenil T10 kafes silseskuioksanın hazırlanması
Çok yüzlü oligomerik silseskioksanlar olarak da bilinen kafes benzeri Silseskioksanlar (CSQ), bir silseskioksanlar sınıfı için genel bir terimdir. CSQ, bir kafesli silikon sınıfı için genel bir terimdir. Farklı CSQ'lar temel olarak n ve R arasındaki farktan kaynaklanmaktadır. CSQ üç boyutlu bir kafes yapısıdır. n farklarına göre sırasıyla küp (Oh) konfigürasyonu, beşgen prizma (D5h) konfigürasyonu ve çanak benzeri (D2d) konfigürasyonuna karşılık gelen T8, T10, T12 vb. olarak adlandırılırlar.

2. Oda sıcaklığında kürlenen tipte suya dayanıklı endüstriyel üst kaplamanın hazırlanması
Spesifik olarak, metilsilan ve fenil silan kullanan polimer, sırasıyla sulu bir florokarbon reçinesi, sulu bir poliüretan reçinesi ve bir su bazlı alkid reçinesi ile çözelti polimerizasyonundan sonra endüstriyel kaplamalar için kullanılır. Bu endüstriyel kaplama, mükemmel hava koşullarına ve nemli ısı direncine sahiptir. Organik solvent kullanılmadığı için üretilen oda sıcaklığında kürlenen sulu hava koşullarına dayanıklı endüstriyel son kat çok düşük organik uçucu içeriğe sahiptir. Çevre dostudur.

3. Bir fenil işlevli hidrofobik zeolit hazırlayın.
Doğal zeolitler gibi gözenekli mineraller, zengin gözenek yapıları ve iyi kirletici giderme performansları nedeniyle artan bir ilgi görmüştür. Bir fenil işlevselleştirilmiş hidrofobik zeolit hazırlama yöntemi olup, aşağıdaki adımlardan oluşur: Doğal klinoptilolit, reaksiyonu tamamlamak için fenil silan birleştirme maddesi çözeltisine eklenir ve daha sonra fenil işlevselleştirilmiş bir hidrofobik zeolit elde etmek için filtrelenir, durulanır ve kurutulur. Yukarıdaki hazırlama yöntemi, zeolit yüzeyinin, bir fenilsilan birleştirme maddesi tarafından bir fenil fonksiyonel grubu içermesine izin verir. Mevcut buluşun yöntemiyle hazırlanan fenil işlevli hidrofobik zeolit, aromatik organik kirleticileri etkin bir şekilde adsorbe edebilir.

4. Bir oktafenil kafes silseskuioksanın hazırlanması.

5. Bir POSS yapısı içeren bir antijen-oksijen poliimid hibrit film hazırlayın.